ICP-OES设备的使用与维护

发布时间：2024-04-23 20:36

　　近年来我国科学技术得到了迅速的发展,电子器件也朝着微细化的方向进行发展,对于电子检测工作也提出了更高的要求。电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)作为精密度比较高的一种检测技术,正因为ICP-OES设备比较精密,在使用过程中才会受到多种外界因素的干扰,影响到检测结果的精准度,这也就需要相关技术人员能够强化对ICP-OES设备的使用跟维护工作,确保ICP-OES的运行效果。

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【部分图文】：

图1ICP-OES设备刻蚀系统原理图

在ICP-OES设备上配置有两个独立频率的射频发生器,分别是源射频发射器以及偏压射频发生器,具体刻蚀原理如图1所示。源射频发生器主要作用于上电极侧壁的感应线圈,偏压射频发生器则主要作用于下电极。当射频发生器中的射频能量耦合到反应腔室内后,感应线圈会直接产生交变的电磁场,当电场的强....