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高强度不锈钢AM355点蚀及晶间腐蚀机理研究

发布时间:2024-04-21 13:44
  随着高强度不锈钢使用范围的推广,其所处的服役环境也日益多样化,其面临的腐蚀的问题也日趋严重。对于高强度不锈钢来说其面临的腐蚀问题主要包括钝化、点蚀和晶间腐蚀等。本文以高强度不锈钢AM355为对象,通过研究马氏体高强度不锈钢的钝化、点蚀和晶间腐蚀机制,为延长高强度不锈钢使用寿命提供理论指导和数据支撑。通过对实验数据的分析,得到以下结论:通过对高强度不锈钢AM355在不同pH溶液环境中电化学行为的影响可以知道,高强度不锈钢AM355在pH = 1.5-11的溶液中发生点蚀破坏,而在pH =13的溶液中出现二次钝化区,并且可以观察到晶间腐蚀的倾向。高强度不锈钢AM355上所形成钝化膜和二次钝化膜均表现为n型半导体的特征,并且二次钝化膜的点缺陷浓度大于钝化膜。通过使用液相原位原子力显微镜对高强度不锈钢AM355点蚀机制的研究可以知道,高强度不锈钢AM355中MnS-氧化物双相夹杂物的点蚀敏感性高于其他两种夹杂物(MnS夹杂和氧化物夹杂)。MnS-氧化物双相夹杂物的点蚀敏感性源于两相之间的协同作用,即MnS优先溶解导致的局部环境酸化促进氧化物/基体边界区域的溶解,而在氧化物/基体边界区域的不稳定...

【文章页数】:128 页

【学位级别】:博士

【部分图文】:

图2-1?PDM模型界面点缺陷生成和湮灭的反应示意图??-3?-??

图2-1?PDM模型界面点缺陷生成和湮灭的反应示意图??-3?-??

了“纯化”现象的存在;19世纪30年代Schonbein和Faraday对此现象展开??了研宄,Schonbein创造f?“纯化”一词,而Faraday将该现象带入到电化学??领域;直至19世纪60年代pourbaix研究出pH-电位图谱,才充分的解释了??该现象发生的原因。宄其....


图2-2?Fe-15Cr在0.5M?H2S04溶液中生成氧化膜的厚度与成膜电位之间的关系??-4?-??

图2-2?Fe-15Cr在0.5M?H2S04溶液中生成氧化膜的厚度与成膜电位之间的关系??-4?-??

品强度不锈钢AM355点蚀及晶间腐蚀机理研究??PDM模型是描述金属在液相介质中钝化过程的原子尺度模型,其中包括??了钝化膜阻挡层间隙中点缺陷的产生和湮灭,如图2-1所示PDM模型??中认为电场强度大小不随膜层厚度的变化而改变,而是金属/膜层界面的电压?、??降随膜层的生长而下降....


图2-3金属表面双层钝化膜形成过程图??

图2-3金属表面双层钝化膜形成过程图??

2.1.2钝化膜结构??大部分研宄表明纯化膜是一种双层膜结构,包括直接由金属基体上生长??出来的具有缺陷的氧化物构成的内层和由氢氧化物沉积而成的外层,如图2-??3所示19】。也有学者认为可以将钝化膜分为三层分别是:由Fe3+组成的最外??层,Fe304组成的中间层,以及Cr20....


图2-4不锈钢钝化膜的纳米结构??-

图2-4不锈钢钝化膜的纳米结构??-

且依据钝化膜中成分的差异也可以证明钝化的双层结构。??目前,有一些文献中介绍了不锈钢钝化膜外层的纳米结构,它们一致认??为不锈钢钝化膜由于纳米氧化物颗粒构成的,如图2-4所示121-231。但是这些??报道中关于纳米颗粒的尺寸却没有一致的结论(如表2-1所示)。另外,关于??成膜....



本文编号:3960958

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