铝熔体与表面涂镀基底的润湿行为研究

发布时间：2024-02-22 10:25

　　本文采用了座滴法在高真空条件下测试了铝熔体与氧化铝、石墨、纯铬、纯镍、镀铬氧化铝、镀镍氧化铝以及镀铬石墨的润湿行为。主要探究了不同铬膜及镍膜厚度对铝熔体与氧化铝基底润湿行为的影响,以及不同铬膜厚度对铝熔体与石墨的基底的润湿行为影响。并对镀层对润湿行为的影响的微观机理进行了分析。700℃以及800℃下铝熔体与纯铬和镀铬氧化铝基底的润湿行为实验结果显示,氧化铝基底上沉积铬膜改善了基底与铝熔体的润湿性。当沉积的铬膜厚度从260nm逐渐增加到1200nm,平衡接触角逐渐减小,铺展速率逐渐提升。且温度的提升更好地改善了润湿性。700℃下铝熔体与纯铬和镀铬石墨基底的润湿行为实验结果显示,石墨基底上沉积铬膜能显著改善铝熔体与石墨基底的润湿性。当沉积的铬膜厚度从170nm逐渐增加到900nm,平衡接触角逐渐减小,铺展速率逐渐提升。且镀层经过热处理后会改变铝熔体在镀铬石墨上的润湿性能。700℃下铝熔体与纯镍和镀镍氧化铝基底的润湿行为实验结果显示,氧化铝基底上沉积镍膜能显著改善铝熔体与氧化铝基底的润湿性。当沉积的镍膜厚度从100nm逐渐增加到1000nm,平衡接触角显著降低,铺展速率逐渐提升。实验现象与镀...

【文章页数】：60 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

图3.1铝熔体与纯氧化铝基片的润湿过程图像

要研究了铝熔体与镀铬氧化铝、纯氧化铝和纯铬的润湿行为，镀200nm之间，润湿温度为700℃和800℃，通过对比铝熔体与上，以期研究镀铬层对铝熔体在氧化铝上的铺展速率、平衡润湿角作用机理。触角变化特征接触角变化过程体在纯氧化铝基片上的铺展显示的是铝熔体与纯氧化铝基片的润湿行为....

图3.2700℃下铝熔体与650nm镀铬氧化铝基片的润湿过程图像

沈阳航空航天大学硕士学位论文像，图3.2(b)是润湿行为实验进行到2min时的过程图像，图3到10min时的过程图像，图3.2(d)是铺展过程结束时的图像态一直保持到润湿实验时间结束。由图3.2可知，铝熔体在6的润湿接触角有一定变化，最终接触角约为42°，最....

图3.3700℃下铝熔体与纯铬基片的润湿过程图像

图3.3700℃下铝熔体与纯铬基片的润湿过程图像(a)0s(b)2min(c)10min(d)47min下铝熔体在650nm镀铬氧化铝基片上的铺展示的是铝熔体与650nm镀铬氧化铝基片上的润湿行为实验的800℃温度下进行，整个实验保温60min。其中图3.4(....

图3.4800℃下铝熔体与650nm镀铬氧化铝基片的润湿过程图像

图3.3700℃下铝熔体与纯铬基片的润湿过程图像(a)0s(b)2min(c)10min(d)47min下铝熔体在650nm镀铬氧化铝基片上的铺展示的是铝熔体与650nm镀铬氧化铝基片上的润湿行为实验的800℃温度下进行，整个实验保温60min。其中图3.4(....

本文编号：3906643