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Cr 3+ 掺杂对ZnGa 2 O 4 光催化性能影响的研究

发布时间:2021-10-13 04:07
  试验以Ga(NO33·9H2O、Zn(NO32·6H2O、Cr(NO33·9H2O、Na3C6H5O7·2H2O为原料,采用水热法制备Cr3+掺杂ZnGa2O4。通过XRD、TEM对样品的结构和形貌进行表征,通过UV-vis DRS、PL对样品进行光学性能表征,利用紫外-可见光分度计测试罗丹明B的吸光度变化情况对样品进行光催化性能检测。研究掺杂量、煅烧温度、保温时间对ZnGa2O4的影响,试验结果表明,最佳制备条件为:Cr3+掺杂量1.0%、煅烧温度700℃、保温时间8 h。最佳条件下ZnGa1.99Cr0.01

【文章来源】:中国陶瓷. 2020,56(01)北大核心CSCD

【文章页数】:8 页

【部分图文】:

Cr 3+ 掺杂对ZnGa 2 O 4 光催化性能影响的研究


不同Cr3+掺杂量条件下ZnGa2O4的光催化降解RhB图

谱图,谱图,电子,空穴


图4是室温下Cr-ZnGa2O4样品在254 nm波长激发下的发射光谱,ZnGa2O4基质在430 nm处出现宽带发射峰,属于ZnGa2O4的特征发射峰,来源于正常八面体中Ca-O键之间Ga3+与周围O2-之间发生跃迁。由图4可知,对比ZnGa2-xCrxO4(x=0.6%、0.8%、1.0%、1.5%、2.0%)五个掺杂比例,随着掺杂量的增加,发光强度降低,相对荧光强度为其中ZnGa1.99Cr0.01O4<ZnGa1.992Cr0.008O4<ZnGa1.98Cr0.02O4<ZnGa1.995Cr0.015O4<ZnGa1.994Cr0.006O4,ZnGa1.99Cr0.01O4的发光强度最低,说明在此掺杂量下,在ZnGa2O4晶格中电子-空穴分离率高,从而提高了光催化效果。图中第二峰的出现是由于Cr3+对光本身具有吸收,完全吸收后发生电荷分离产生光生电子,产生的电子有两个途径:一是光生电子和空穴发生复合用于发光;二是光生电子和空穴分离,电子发生跃迁用于光催化。第二个峰的出现是由于光生电子与空穴复合用于发光,从而导致光催化性能下降。2.2 煅烧温度对ZnGa1.99Cr0.01O4性能的影响

谱图,谱图,条件,禁带宽度


图2是不同掺杂量下ZnGa2-xCrxO4的XRD谱图。ZnGa2O4试样衍射峰峰位的2θ值为18.423°、30.307°、35.700°、37.345°、43.393°、53.843°、57.402°、63.043°、71.539°、74.609°、75.622°、79.631°分别对应是的立方尖晶石相ZnGa2O4的[111]、[220]、[311]、[222]、[400]、[422]、[511]、[440]、[531]、[620]、[533]、[622]和[444]晶面特征峰,与ZnGa2O4标准卡片PDF#38-1240基本对应,有少许峰未对应是由于纯相ZnGa2O4未经煅烧处理,晶面未发育完整。由此可以推测确实生成了ZnGa2O4,并没有杂相出现。由图2可以看出不同掺杂量下制备的所有样品均是ZnGa2O4的纯相,少量Cr3+的掺杂并不影响的晶体结构。图3为不同掺杂量下ZnGa2-xCrxO4的UV-vis DRS谱图。由图3可知,ZnGa2O4样品在在200~300 nm的紫外区具有明显吸收,在高于300 nm时吸光度下降,表明ZnGa2O4吸收边带在300 nm左右。当Cr掺入ZnGa2O4中,ZnGa2-xCrxO4的UV-vis DRS漫反射谱在紫外区吸收有明显的增强,由于ZnGa2O4的带隙之间形成了掺杂能级从而使吸收边带发生红移,缩小了ZnGa2-xCrxO4样品的禁带宽度。利用切线方法来确定各个样品的吸收截止边λ0,可知ZnGa2-xCrxO4(x=0.0%、0.6%、0.8%、1.0%、1.5%、2.0%)的吸收波长为326 nm、370 nm、343 nm、361nm、361 nm和378 nm,通过公式Eg=1240/λ0计算禁带宽度,分别计算可得3.80、3.36、3.61、3.44、3.44和3.28 eV。计算可知,Cr掺杂缩小了ZnGa2O4的禁带宽度,增大了样品的光响应范围,提高光能的利用率,改善了ZnGa2O4的催化活性,其中,掺杂量为1.0%的ZnGa2O4样品的禁带宽度最小,光催化活性最好。

【参考文献】:
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本文编号:3433917

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