光面晶体硅—陷光膜复合吸光结构的设计制造及性能研究

发布时间：2024-01-25 17:26

　　提高晶体硅电池光电转换效率,关键在于如何实现对太阳光的高效吸收和增强光生伏特效应。如何提高晶体硅电池的吸光率、增强其光生伏特效应、降低生产成本是晶体硅电池领域的研究热点。在太阳能利用研究领域,吸光结构对太阳能电池的光电特性影响很大,光功能织构表面的研究已经成为国内外学者研究热点。采用传统的制绒技术在晶体硅表面直接加工出陷光织构,虽能够提高晶体硅电池的吸光率,但也会产生新的表面缺陷而引起晶体硅电池光生伏特效应下降。因此,表面光功能织构的设计及制备成为高效晶体硅电池研究的热点和难点。本文分析晶体硅电池常规光功能织构制备遇到的瓶颈问题,提出了一种光面晶体硅复合三棱锥光功能织构膜的吸光结构。首先创建了光线在三棱锥光功能织构膜外表面反射损失和内表面折射损失的数学模型,优化复合结构光功能织构膜的三棱锥侧面倾角;结合三棱锥织构膜的制备工艺,对该织构膜的结构参数进行优化设计。其次,研究了光功能织构膜凸三棱锥原始模芯的超精密切削,利用精密电铸工艺制备凹三棱锥织构的工作模具,采用UV压印工艺制备三棱锥光功能织构膜;并分析了制备精度对三棱锥织构膜光学性能的影响。此外,通过对比绒面单晶硅电池、光面单晶硅电池和...

【文章页数】：140 页

【学位级别】：博士

图1.1单晶硅电池结构

图1.2晶体硅表面光路图

图1.3化学制

图1.4PERL电池结构[39]

本文编号：3885242